魏兴思并没有苛难，而是鼓励孙沃“继续加油”，因为他知道对于新手来说，第一篇文章，不算做实验的时间，单单写文章、改文章花费一两个月的时间，都是很正常的事情。
田晴继续撰写“多个体系的激子结合能、激子扩散距离”工作，目标期刊ACSEL，文章进度七成左右，她有些划水了，没有全力以赴的码字，不然按照她的能力，这周文章的进度估计能达到八成，或者九成以上。
陈婉清开始汇报：“上周主要在蓝河那边制备全溶液法半透明器件，换了PEIE传输层材料，器件效率突破到7.17%……”
“同时，我们去魔都光源测试对比了同种有效层材料，经由旋涂或刮涂制备得到的薄膜的分子堆砌结构……”
“对数据进行面内、面外积分，结果表明，刮涂得到的薄膜，其（100）、（010）信号均比旋涂得到的薄膜信号强……”
“可以这样解释，刮涂是缓慢的移动刮刀，薄膜自然成膜，这个过程中用来结晶的时间非常充足，比较容易形成高度结晶的薄膜，而旋涂过程中，薄膜是在高速旋转的平台上，溶剂挥发，成膜时间非常长，不利于结晶……”
“另外，这是光吸收光谱……”
见学姐只单独列出刮涂有效层薄膜的光吸收图像，许秋提议道：“可以对比一下刮涂和旋涂两种制备方法得到的有效层薄膜的光吸收光谱，我的意思是放在同一张图里进行比较，看有没有什么差异。”
陈婉清略作思考，点了点头：“好的，我把它们画在一起，比较一下。”
“嗯，我推测刮涂法的光吸收光谱的吸收峰位置，可能会相对旋涂法的吸收峰发生红移，而且理论上峰应该会更‘尖’一些，也就是半峰宽会比较小。”许秋先是补充了几句，随后话锋一转：“当然，如果实验结果不是这样，那就当我没说。”
众人本来听前半段觉得许秋分析的很有道理，结果没想到最后补上了这样的一句，皆是笑了出来。
许秋的《焦耳》综述已经初步撰写完毕，正在进行收尾和文章的修改，预计这周投出。
这篇文章只有他和魏兴思两个作者，不能拜托其他人帮忙修改，在找魏老师前，只能自己先多看几遍了。
韩嘉莹上周完成了H5、J4材料的合成，周末做了一批器件，采用了IT-4F、IDIC-4F等受体材料与之匹配。
结果表明，H5材料的器件性能相较H22，大约下降了1%的效率，而J4和J2性能的变化不大，许秋在模拟实验室中，通过多次重复实验，也印证了学妹在现实中的实验结果。
其中，H5的工作，大概率发不了什么太好的文章，上限差不多是弱一区，或者AM子刊AFM、Adv.Sci.。
J4的话，有希望发一篇AM级别的文章，虽然器件性能没有明显提高，但采用氯原子取代氟原子这个思路，解决了材料合成难度这一问题，也是一个很大的亮点。
邬胜男IDIC-M的文章已经写好投出，目标期刊为EES。
另外，她拿到了两种新的材料，IHIC和4TIC，都是相对于ITIC进行D单元共轭结构的改性，目标得到窄禁带宽度近红外光吸收的受体。
最终的结果也不出所料，两种材料的光吸收边缘都在900-1000纳米附近，器件性能中规中矩，两种受体和PCE10、PCE11给体材料结合，最高效率可以做到10%以上。
博后学姐打算接下来朝着半透明器件的方向发展，许秋已经帮她提前铺好了路，摸索实验条件的难度下降了许多。
莫文琳继续撰写她的第三篇三元文章，目标期刊AEM，现在进度五成半左右，上周许秋没怎么打扰她，她写文章的速度也提了上来。
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